LPCVD改造翻新是根据客户的要求及现有机台的状况给出Zui优的解决方案，可实现常压扩散炉改为LPCVD，也可实现LPCVD中不同工艺的更换。
LPCVD技术指标
1.1工作温度：300～900℃
1.2适用硅片尺寸：4～6英寸
1.3装片数量：正片100～150片/管
1.4恒温区长度：1000mm
1.5恒温区稳定性：≤±0.5℃
1.6极限真空度：6mTorr
1.7淀积膜均匀性：片内≤±3%，片间≤±3%，批间≤±3%，
1.8气源系统：进口配件、自动轨道焊接
1.9控制系统：整机控制系统采用工业控制计算机（WINDOWS系统，中文操作界面，方便简洁）
可选配置：
1.1工艺管数量：1～4管
1.2进出舟模式：手动送片/自动送片（悬臂模式、软着陆模式）
1.3控压模式：MKS蝶阀控制模式和N2吹扫模式
1.4适用工艺：Poly、D-Poly、Si3N4、TEOS、PSG、SIPOS、LTO等
| 成立日期 | 2010年11月15日 | ||
| 法定代表人 | 刘明利 | ||
| 注册资本 | 600 | ||
| 登记机关 | 即墨市工商行政管理局 | ||
| 主营产品 | 青岛扩散炉 ,扩散炉, 太阳能炉 , 退火炉 ,扩散炉炉体 | ||
| 经营范围 | 研发销售工业自动化控制软件，研发、生产销售：工业自动化控制系统设备及配件、半导体设备及配件（以上范围不含特种设备）；销售计算机及配件、电子产品、仪器仪表；货物进出口，技术进出口（法律、行政法规禁止的项目除外，法律、行政法规限制的项目取得许可后方可）。（依法须经批准的项目，经相关部门批准后方可开展经营... | ||
| 公司简介 | 青岛赛尔微电子有限公司是集科研、开发、制作和服务为一体的高新技术企业，公司与多所高校和研究机构有着密切的合作，并与一些半导体厂达成技术合作关系，主要从事半导体行业和太阳能行业高精度控制系统及设备的设计、制作与服务。公司的技术人员都是有着多年行业经验的精英，对微电子工艺流程有深入了解，对设备运行中可能出现的问题提供有效的预防。目前公司已推出share-100系列、share-2000系列、share ... | ||
