海外参展常见知识产权风险
企业海外参展常见的知识产权风险集中在专利权（发明、实用新型和外观设计）风险、商标权风险和版权风险三大方面。
专利权风险
参展产品一般融合了研发成果，因其外型、结构、原理被抄袭而引发的专利侵权纠纷是展会中发生比例很高的。外观设计专利、普通的实用新型专利，内行人只要看一眼，立刻就能模仿。大部分的展会查抄都因专利而起，并且已经由简单的外观设计、实用新型侵权纠纷发展成为复杂的、不易判断的发明专利侵权纠纷。
商标权风险
商标具有地域性，在中国注册的商标，只在中国受保护，在参展地没有注册，则不受保护。如果某企业的商标在中国注册，但在参展地却被其他人抢注成功，那么企业未经授权在参展地使用该商标就属于侵权行为。如果是被他人许可使用的商标，还需注意商标许可是有期限性的，超期仍使用有可能被诉商标侵权。此外，如果在商品、包装以及相关广告宣传品上出现了在中国属于通用名称而在其他国家受法律保护的商标（如“MTV”）时，企业也可能在不知情的情况下被视为商标侵权。
版权风险
参展企业散发的参展材料中如果使用了他人作品，或者搭建的展台使用了他人设计方案，都可能导致侵犯他人版权。展会中，因使用背景音乐、他人摄影作品或美术作品等而被追究责任的纠纷也时有发生。企业还应注意展会现场使用的电脑中所承载的软件是否是正版。
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